CMOS模拟集成电路版图设计软件教程.pdf（pdf格式ppt）

发布时间：2022-06-03 发布人：admin 分类：说明书资料大小：6.47M 资料格式：pdf 举报版权申诉

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2017/4/15 CMOS模拟集成电路版图设计软件教程薛晓博 Oct. 20th, 2013 Outline • 初识工艺流程与版图设计 • Layout-XL基本使用方法 • 快捷键与小技巧 • DRC与LVS • 版图寄生参数提取与后仿真 2017/4/15 Institute of VLSI Design, Zhejiang University 2 1

• 初识工艺流程与版图设计 • Layout-XL基本使用方法 • 快捷键与小技巧 • DRC与LVS • 版图寄生参数提取与后仿真 2017/4/15 Institute of VLSI Design, Zhejiang University 3 初识工艺流程和版图设计  如何将设计的电路制作出来 • 芯片生产厂商通过特定的加工工艺将三维立体的器件和导线集成制造在硅片上  集成电路工艺制造的特点 • 利用光刻、氧化、参杂注入、离子刻蚀等手段由底及高一层一层地将器件和导线制作成型  如何理解集成电路工艺 • 如堆叠积木般一层一层地将器件与连线制造出来，制作每一层的时候如同雕刻图章 2017/4/15 Institute of VLSI Design, Zhejiang University 4 2017/4/15 2

初识工艺流程和版图设计  什么是版图（Layout） • 版图实质上是将立体的器件与导线投影到每一层光刻掩模版（mask）上的绘图  光刻掩模版有什么用 • 光刻掩模版上的图形表示通光或遮光的区域，实际上是用来告诉工艺进行光刻时需要雕琢的图形和区域  版图和工艺制造的关系 • 版图中的每一层代表一种需要制作的元件或者导线；同一层中绘制的图形的“或”是最终在一层mask上的图形；不同层图形的“与”得到了器件的关键区域和参数 2017/4/15 Institute of VLSI Design, Zhejiang University 5 N-well CMOS基本工艺流程剖面图俯视图 2017/4/15 Institute of VLSI Design, Zhejiang University 6 2017/4/15 3

2017/4/15 N-well CMOS基本工艺流程 2017/4/15 Institute of VLSI Design, Zhejiang University 7 N-well CMOS基本工艺流程 2017/4/15 Institute of VLSI Design, Zhejiang University 8 4

2017/4/15 N-well CMOS基本工艺流程 2017/4/15 Institute of VLSI Design, Zhejiang University 9 N-well CMOS基本工艺流程 2017/4/15 Institute of VLSI Design, Zhejiang University 10 5

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2017/4/15 N-well CMOS基本工艺流程 2017/4/15 Institute of VLSI Design, Zhejiang University 15 N-well CMOS基本工艺流程 MOS管电镜照片 2017/4/15 Institute of VLSI Design, Zhejiang University 16 8

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