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实验一:MOS管基本特性测试 cadence.doc

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MOS 管基本特性测试 一、实验目的 1、熟悉电路的测试方法 2、观察 MOS 管的主要特性 二、实验步骤及原理分析 1、电路图的绘制 绘制的电路原理图如图一所示: 值得注意的是应将 NMOS 的衬底接地(GND),而相应的应将 PMOS 的衬底接 电源(VDD),这样不仅能消除体效应,而且能够减弱闩锁效应(在 NMOS 实现中 并不存在)。 图一 实验原理图 2、MOS 管的输出特性 输出特性就是漏源电压 DSv 与输出电流 DI 的关系。如图一所示,可以通过对 DSv (即 V1)作连续的扫描,本实验中从 0 扫描到 15V,这样就可以得到输出特性 I 曲线 D v 。为了得到一组输出特性曲线,可将栅源电压 GSv 按一定的步进变化, DS 在这里, GSv 的取值分别为 3V,6V,9V,12V,15V。 得到输出特性曲线如图而所示:
图二 输出特性曲线 如图二所示,可将输出特性曲线分为三个区间: V 1)截止区: GS V th V 此时,由于 GS V ,MOS 管处于截止状态,故输出电流 th DI  。 0 V 2)三极管区: GS V V , DS th  V GS  V th 此时,输出电流为 I D  n C ox W L (( V GS  ) V V th DS  1 2 V DS 2 ) 从电流方程及输出特性曲线可知,在此区间输出电流 DI 与漏源电压 DSv 成二 次关系。 V 3)饱和区: GS V V , DS th  V GS  V th 此时,输出电流为 I D C  n 1 2 W L ox ( V GS  V th 2 ) 从电流方程及输出特性曲线可知,在此区间输出电流 DI 与漏源电压 DSv 基本 无关。这是在理想情况下,输出电流 DI 与漏源电压 DSv 基本无关。而实际 MOS 管 在饱和区的输出特性曲线还应考虑 DSv 对沟道长度 L 的调制作用,当 GSv 固定, DSv 增加时, DI 会有所增加。考虑到沟道长度调制效应,上式可修正为: I D  1 2  n C ox W L ( V GS  V th 2 ) (1  V  DS )
其中,为沟道长度调制系数。对典型器件,的值可近似表示为   0.1V L  1 。 3、MOS 管的转移特性 转移特性是输出电流 DI 对输入电压 GSv 的关系。注意设置纵轴为漏级电流 DI , 横轴为输入电压 GSv 。 如图三所示为 MOS 管的转移特性曲线,输入电压 GSv 的扫描范围为 0 到 5V。 由图三可以看出开启电压 thV V 。 1 图三 MOS 管转移特性 当改变 DDV ( )DSV 即漏源 时,得到一组转移特性曲线如图四所示。对图四特性 中弯曲现象解释: V 1)当 GS 1 V V( th thV )时,MOS 管处于截止状态,输出电流 DI 为 0; V 2)当 GS V 时,MOS 管导通,随着输入电压 GSv 的增大,输出电流 DI 也增大, th 故在电压为 1V 处曲线产生弯曲。
图四 一组转移特性曲线 4、输出特性和 W/L 之间的关系 为了了解输出特性与 W/L 之间的关系,可以通过改变 W/L,作出一组输出特 I 性曲线 D v 。如图五所示,把 W/L 作为变量 param,然后对漏源电压从 0V 扫 DS 描到 12V,进而得到一组 W/L 与输出特性的关系曲线。其中,每条曲线从下到上 的 W/L 分别为 1.5um、6.5um、11.5um、16.5um、21.5um、26.5um、31.5um、36.5um、 41.5um、46.5um。 图五 输出特性和 W/L 之间的关系 可以利用饱和电流公式 I D C  n 1 2 W L ox ( V GS  V th 2 ) 知,输出电流 DI 与 W/L 成正 比。同时从图五曲线也可以看出,当 W/L 逐渐增大时,输出电流 DI 也逐渐增大。 5、跨导 mg 与 W/L 的关系 通过修改 MOS 管的 W/L,得到一组转移特性曲线如图六所示。其中,每条曲 线从下到上的 W/L 分别为 1.5um、6.5um、11.5um、16.5um、21.5um、26.5um、 31.5um、36.5um。栅源电压的扫描范围为 0 到 25V。
从曲线可以看出,当 图六 转移特性与 W/L 的关系 GSv 1 V 时,输出电流为 0;当 GSv 逐渐增大时,输出电 流也逐渐增大,直到基本不变。从另一个角度看,随着 W/L 逐渐增大,转移特性 曲线的斜率也逐渐增大,也即是说:在相同的栅源电压 GSV 下,随着 W/L 逐渐增 大,跨导 mg 逐渐增大;但是当 GSv 20 V 左右时,斜率几乎为 0,即 mg 约为 0。 V 这也可以从理论上分析,当 GS g 变。1)在饱和区, 正比,也即是说,当 W L m g 这与图六相稳合。2)在线性区, m 跨导 mg 仍与 W L 成正比。 th V 时,输出电流 DI 显著增大,最终基本不  ,从该等式可以看出,跨导 mg 与 W V th L 成 )  n C ox W L ( V GS 增大时,跨导 mg 也增大,转移特性曲线的斜率也增大。  n C ox W L V DS ,此时输出电流基本不变,但 三、实验总结 通过本次实验,学会了测试 MOS 管的输出特性及转移特性的基本方法。同时 也进一步理解了 MOS 管的基本特性。例如,MOS 管的工作状态的分析,MOS 管输 出特性和 W/L 之间的关系,跨导 mg 与 W/L 的关系。主要结论有: 1、MOS 管的三个工作区:线性区、饱和区、截止区及对应的输出电流 DI 与 输入电压的关系。 2、输出电流 DI 与 W/L 成正比,即当 W/L 逐渐增大时,输出电流 DI 也逐渐增 大。 3、 在相同的栅源电压 GSV 下,随着 W/L 逐渐增大,跨导 mg 逐渐增大。
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